日本物理学会2023年春季大会

1: モリブデン表面上におけるホウ素薄膜の構造; 九大総理工; 岩城展世, Farhana Tuli, 中川剛志
2: 結晶粉砕による最安定ラセミ結晶から準安定カイラル結晶への相転換 II; 北大低温研, 愛工大^A; 勝野弘康, 上羽牧夫^A
^●3: The Spin Polarization of Palladium on Magneto-Electric Cr₂O₃; Univ. of Nebraska-Lincoln, 広大放射光セ^A, 広大院理^B; Takashi Komesu, Shiv Kumar^A, Amit Jadaun^B, Yuudai Miyai^B, Kenya Shimada^A, Ch. Binek, Peter A. Dowben
4: 角度分解光電子分光によるBorophene/Ag(111)の電子状態; 早大先進理工, 東大物性研^A, 東大生産研^B; 石川久遠, 阿部浩子, 飯盛拓嗣^A, 小森文夫^B, 松田巌^A, ^○高山あかり
5: 超伝導体C₆CaC₆とSiC基板の界面Caが誘起する金属的バンドと転移温度の上昇; 東工大理, 分子研UVSOR^A; 德田啓, 一ノ倉聖, 豊田雅之, 田中清尚^A, 斎藤晋, 平原徹
^●6: Surface structure and electronic state of (Pb,Bi)/Ge(111) studied by ARPES; Waseda Univ., SL Center, Saga Univ.^A; L. Konerman, H. Abe, M. Imamura^A, K. Takahashi^A, A. Takayama
^●7: Photoelectron spectroscopy of artificially designed three-dimensional Si facet-line structures with clean {111} facet surfaces; Nara Inst. Sci. Technol., Osaka Univ.^A, Dalian Jiaotong Univ.^B, UVSOR, Inst. Mol. Sci.^C; Ni'matil Mabarroh, Juharni, Yuki Ida, Wataru Imayama, Yasunari Kimoto, Yoshihiro Kitagawa, Liliany N. Pamasi, HaoBang Yang, Yuya Sakai, Tomoya Shimizu, Ai I. Osaka^A, Hidekazu Tanaka^A, XiaoQian Shi^B, FangZhun Guo^B, Kiyohisa Tanaka^C, Shigemasa Suga^A, Shin-ichiro Tanaka^A, Azusa N. Hattori^A, Ken Hattori
8: (In,Bi)/Si(111)表面の原子構造; 東工大院物質理工, 東工大院物質理工, 東工大院理, 東工大院物質理工; 瓜生瞳美, 長尾俊佑, 平山博之, 中辻寛
9: RHEEDパターンの表面粗さ依存性; 奈良先端大先端科学^A, 阪大産研^B, 米子高専^C; 井田有紀^A, ^○北川喜宏^A, Juharni^A, 清水智也^A, 髙橋駿太^A, 大坂藍^B, 服部梓^B, 田中秀和^B, 桃野浩樹^C, 服部賢^A
10: サブマイクロサイズの三次元Si{111}ファセットライン構造の表面制御; 奈良先端大, 阪大産研^A; 今山航, ^○木元康成, Ni'matil Mabarroh, 阪井雄也, 東嵩晃, 服部梓^A, 大坂藍^A, 田中秀和^A, 服部賢
11: 富岳におけるベイズ推定を用いた全反射高速陽電子回折(TRHEPD)のデータ解析; 鳥取大^A, KEK-物構研-SPF^B, 東大^C; 木下直希^A, 岩本晴道^A, 望月出海^B, 吉見一慶^C, 本山裕一^C, 中野陽斗^A, 寺地雄真^A, 福島孝治^C, 星健夫^{A, B}
12: 金属への水素/重水素の貯蔵による超伝導ジョセフソン電流の抑制; 九大院工; 芳賀雄仁, 宮川一慶, 太子周, 志賀雅亘, 河江達也
13: 実測サブバンド準位を満たすイオン打ち込みSi(001)p型反転層形状の探索的決定; 奈良先端大, 阪大^A, 東工大^B; 市川涼太, 奥村勇斗, 比嘉友大, 湯川龍^A, 坂本一之^A, 筒井一生^B, 武田さくら
^●14: Machine Learning Molecular Dynamics Simulation of CO2 Hydrogenation to Formate on Cu(111) Surface.; Grad. Sch. of Eng., Osaka Univ.; Harry Halim, Yoshitada Morikawa
15: 有機水素結合フレームワーク内に生じる量子閉じ込め表面状態; 東理大理工^A, 東大物性研^B; 山崎弘人^A, 馬上怜奈^A, 向井孝三^B, 福島優斗^B, 川口海周^B, 尾崎文彦^B, 近藤猛^B, 原沢あゆみ^B, 吉信淳^B, 金井要^A
16: 発光分光で求めた300℃〜500℃におけるSiの加熱電流と温度の関係; 奈良先端大; 奥村勇斗, 市川涼太, 武田さくら
17: 単層FeOの酸化還元における金属Ruと酸化Ru基板の効果; 九大総理工; 永松優花, 中川剛志
18: 電気化学ナノ界面のその場計測に向けた非線形分光計測系の構築; 総研大, 分子研^A; 金成翔, 市井智章^A, 櫻井敦教^A, 杉本敏樹^A
19: 第一原理分子動力学法に基づくグラフェンの水素エッチングの微細機構; 熊大院自然, 熊大院先端^A, アンリツ先端研^B; 寿柳龍太郎, 島村孝平^A, 高良明英, 原正大^A, 松井朋裕^B, 下條冬樹^A
20: 機械学習分子動力学法によるCO吸着したCuステップ表面の再構成の解析; 阪大院工; 上田亮, Harry Handoko Halim, 森川良忠
21: ツイストグラフェンのナノ力学; 電通大院基盤理工; 福島侑, 佐々木成朗
22: 1度以下のツイスト2層グラフェンの電子状態; 東大物性研, 九大院工^A, 名大未来研^B, 東工大総理工^C, 高エネ研^D; 飯盛拓嗣, 今村均^A, 宮町俊生^B, 中辻寛^C, 北村未歩^D, 堀場弘司^D, 間瀬一彦^D, Anton Visikovskiy^A, 田中悟^A, 小森文夫

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